求大神解释,请问同轴光源原理是什么?谢谢
光源为点
位置在透镜、面镜的轴线上。
轴光源(漫射同轴灯,金属平面漫反射照明光源)提供了比传统光源更均匀的照明,因此提高了机器视觉的准确性和重现性。· 均匀照亮平面,有光泽的表面 · 加强划刻,凹陷,或压印特征· 在镜面,漫射和/或吸收表面形成对比· 降低透明外壳或遮盖物的透过率 · 电子元件检测 · 基准定位
同轴灯主要用于检测反光程度很厉害的平面物体,比如玻璃[1]
同轴光源能够凸显物体表面不平整,克服表面反光造成的干扰,主要用于检测物体平整光滑表面的碰伤、划伤、裂纹和异物。
同轴光源能够凸显物体表面不平整,克服表面反光造成的干扰,主要用于检测物体平整光滑表面的碰伤、划伤、裂纹和异物。
您好 我刚在网上搜索了一下:轴光源最适宜用于反射度极高的物体,如金属、玻璃、胶片、晶片等表面的划伤检测;芯片和硅晶片的破损检测,Mark点定位;包装条码识别。不过具体的话 我建议您还是自己去百度百科上面找一下,答案还是蛮详细的!希望能帮到您,祝生活愉快!
l检测金属面、薄膜、玻璃等一些光泽面的伤痕; l检测印刷电路板的网络、IC触脚、硅晶片的表面划伤;l检测瓶口端面的破损等。
同轴光源(漫射同轴灯,金属平面漫反射照明光源)提供了比传统光源更均匀的照明,因此提高了机器视觉的准确性和重现性。· 均匀照亮平面,有光泽的表面 · 加强划刻,凹陷,或压印特征· 在镜面,漫射和/或吸收表面形成对比· 降低透明外壳或遮盖物的透过率 · 电子元件检测 · 基准定位
同轴灯主要用于检测反光程度很厉害的平面物体,比如玻璃[1]
同轴光源能够凸显物体表面不平整,克服表面反光造成的干扰,主要用于检测物体平整光滑表面的碰伤、划伤、裂纹和异物。