装修问题

大理石抛光过程：
1、干磨，用石材翻新机给大理石去皮。去除石材表面脏污，打开石材毛细孔。
2、处理石材脏污  配合化学试剂去除石材脏污
3、防水    防止后期湿磨时，污水渗入石材内部
4、切缝、填缝  统一切缝，补胶，为了整体美观度
5、湿磨，水磨片  从50  150  300  500  1000  2000  3000  依次打磨。目前国内也有3步翻新片，节省施工时间
6、1000  2000  3000已经属于细磨抛光（整体翻新中的），如简单抛光:起蜡（如果有打蜡）、清洁、用钢丝棉或兽毛垫打磨。
7、表面结晶（封釉对于瓷砖）  用晶面机配合百洁垫和结晶粉，在石材表面做一层防护层，防止脏污渗透进入石材内部也可以起到一定的防划伤功能。同时提升石材亮度。有效防护期1年左右。
8、打蜡  功能类似步骤7.它的有效期基本在3个月。
希望可以帮到你。

大理石抛光工艺流程：
1.    机械抛光    机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。
2.    化学抛光    化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。
3.    电解抛光    电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：    (1)    宏观整平    溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。

抛光的原理主要反映在2个方面：微粒研磨原理；物理化学原理。
1、微粒研磨：当磨料颗粒由粗磨到粗磨、抛光时，磨料在石材表面磨削的痕迹由粗到细再到无肉眼看到的痕迹，表面便呈现光滑、平整、细腻，当深度达110微米时，被加工面出现镜面光泽，光彩照人，色泽鲜艳。
微粒研磨由以下几道工序组成：
①粗磨：要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的纹路粗，磨出的表面较粗糙，主要清除产品在前道工序中留有的锯片痕迹并将产品的平整度，造型面磨削到位；
②半细磨：将粗磨痕迹清除，形成新的较细的纹路，产品加工面平整、顺滑；
③细磨：细磨后的产品花纹、颗粒、颜色已清楚地显示出来，表面细腻、光滑，开始有微弱的光泽度；
④精磨：加工后的产品，无肉眼察觉的痕迹。表面越来越光滑，光泽度约40~50度左右；
⑤抛光：表面明亮如镜，具有一定的镜面光泽度（85度以上）。
2、物理化学原理：抛光的过程有2个，即“干抛光与湿抛光”，抛光磨石在“干与湿”之间当石材产品发生物理化学作用，干抛光是在石材表面温度升高使水分蒸发，导致抛光磨石浓度增大，从而达到强化效果，产品光泽度开始达到了理想要求，光泽度达85度以上或更高。
抛光磨石在被加工产品上抛光，待抛光产品烫手后，将板面加水量水，以起到降温作用，不允许连续加水或大量加水，否则，水的润滑作用将会使抛光达不到理想效果，也不能全部使用干抛光，过高的温度会烧坏板面，而且会使板面出现裂纹。
一般而言，产品精磨后，产品的光泽度在40~50左右，而有些石材精磨后达不到上面的光泽度，如山西黑、黑金砂、集宁黑等，此类产品精磨后的光泽度只有20~30度之间，用前面的微粒研磨原理解释不够一面，这种产品在抛光“干与湿”，温度的升高，降温中，强化抛光过程，发生物理化学反应，产品在经过“干抛光、湿抛光”中，光泽度逐步提高，光泽度达85度以上